镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤破坏效应。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
应用领域:广泛用于五金,装饰,工具,陶瓷,高尔夫球头等镀膜行业.
产品种类:钛靶,锆靶,铌靶,镍靶,钽靶,电镀靶材,镀膜靶材
材质:TA1,Ti4N,Ti-Nb,Zr702,Ni,Gr,Nb1,Nb-Zr10%,Ta1
纯度:99.9%-99.99%
圆柱靶、弧形靶:Φ100×40、Φ100×45、Φ95×45、Φ80×40、Φ90×40、Φ85×35及其它特定尺寸
管靶: Φ70×7×L900--2000mm , Φ89.4mmX7.62mmX1728mmΦ89.4mmX15mmX1728mm,Φ80mmX10mmX1728mm,及其它特定尺寸
板靶: T6-40×W60--800×L600--2000mm及其它特定尺寸
执行标准:GB/T2965-2007,ASTM B348